0371-5536 5392 0371-5519 9322
本儀器是一種具有兩個蒸發(fā)源的高真空蒸發(fā)鍍膜儀，鎢絲籃（或鎢舟）用作蒸發(fā)源，并且樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離是可調的。 該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。 該腔室配有觀察窗，因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統(tǒng)的**真空10E-4Pa，可有效提高涂層質量，并能滿足大多數(shù)蒸發(fā)涂層實驗所需的真空環(huán)境。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀用途：
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀技術參數(shù)：
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產品名稱 |
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 |
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產品型號 |
TN-EVV195-II-HH-SS |
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樣品臺 |
位 置 |
頂部設置 |
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外形尺寸 |
直徑φ65mm |
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轉 速 |
0-20 rpm |
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間 距 |
樣品架和蒸發(fā)源之間的距離可調 |
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可調溫度 |
≦500℃ |
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熱蒸發(fā)源 |
鎢絲籃×2個，鎢舟×2個 |
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蒸發(fā)電源 |
每個蒸發(fā)源配一組獨立電源；雙個蒸發(fā)源可同時共蒸 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ195mm×H210mm |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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腔體材質 |
304不銹鋼 |
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開啟方式 |
前開門式 |
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膜厚測量 |
晶體膜厚測量儀（也可選膜厚控制儀） |
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真空系統(tǒng) |
前級泵 |
雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S |
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次級泵 |
渦輪分子泵,氣體抽速600L/S |
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真空測量 |
復合真空計(電離規(guī)+電阻規(guī)) |
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系統(tǒng)真空 |
5×10-4Pa |
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控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級控制器 |
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其他參數(shù) |
供電電源 |
AC380V,50Hz |
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整機尺寸 |
600mm×650mm×1500mm |
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整機功率 |
7KW |
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整機重量 |
260kg |
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